W trakcie zakończonego niedawno Intel Developer Forum 2014 firma Intel zaprezentowała plany rozwojowe dla swoich linii procesorów.
Zapowiedziano między innymi wdrożenie w fabrykach koncernu nowej technologii litograficznej wykorzystującej ultrafiolet o jeszcze krótszej od dotychczas stosowanej długości fali (Extreme Ultraviolet Litography).
Zastosowanie tych procesów oznacza możliwośc produkcji układów w technologii 10 i 7 nm, co będzie przekładało się na niższe zużycie energii i mniejszą emisję ciepła przez nowe układy oraz pozwoli inżynierom Intela na wyprodukowanie jeszcze wydajniejszych procesorów. Nowsza technologia to także obniżone koszty produkcji które bezpośrednio wpłyną na ceny układów dla klienta końcowego.
Pierwsze układy wykorzystujące EUVL pojawią się na rynku najwcześniej w 2016 roku.
Fot.: Intel, ComputerBase.de
